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第四代 真空磁控溅射技术 此类膜产生于20世纪90年代末期，经历了多种技术革新，目前已臻于完美。磁控溅射工艺是将镍、银、钛、金、陶瓷材料等高级宇航合金材料采用先进的多腔高速旋转设备，利用电场与磁场原理高速度高力量地将金属粒子均匀溅射于高张力的PET基材上。磁控溅射工艺的产品除具备很好的金属质感、稳定的隔热性能外，还具有其他工艺所无法达到的清晰度与低反光及持久的色泽。金属磁控溅射具有高清晰、高隔热、低反光、不含染色的特点，是目前玻璃膜的高工艺
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